ishien vacuum 部落格

【乙先小教學之射頻濺鍍機 RF sputter】-- 圖中為三靶源射頻濺鍍系統

射頻濺鍍機是一種薄膜製程儀器，適用於電機、機械、電子、光學、材料等研

究領域。射頻濺鍍機基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子(通常是由電場

加速的正離子)衝擊到固體表面，固體表面的原子和分子在與這些高能粒子交換

動能後，就從固體表面飛出來，此現象稱之為「濺射」。先利用電場使兩極間

產生電子，這些加速電子會與腔體中己預先充入的惰性氣體碰撞，使其帶正電

儀器介紹:太陽能薄膜系統

訂購客戶:台南XX大學

【原理與功能如下】

硒化銅銦鎵(Copper Indium Gallium Diselenide，簡稱為CIGS)為薄膜太陽能

電池一種，是薄膜太陽能電池中轉換效率最佳者，可使用軟性基板，其與矽晶

太陽能電池相比，只需極小部份的矽原料，而轉換效率可以達到20%，且在生產

產品名稱：四吋濺鍍機

訂購客戶:高雄XX大學

【產品介紹】

本濺鍍機備有單支四吋gun，適用靶材於任何導電材料。

可容納四吋晶圓的轉盤以及加熱器，基座可導入RF&DC電漿

作表面處理，進行表面清潔與表面改質。