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產品名稱:四吋濺鍍機

訂購客戶:高雄XX大學

 

【產品介紹】

本濺鍍機備有單支四吋gun,適用靶材於任何導電材料

可容納四吋晶圓的轉盤以及加熱器,基座可導入RF&DC電漿

作表面處理,進行表面清潔與表面改質。

 

【濺鍍原理】

使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境,將陰極加至數百伏特電壓

,讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿,並利用電漿的正離子轟

擊金屬靶材表面,以能量轉移方式,將靶材原子擊出而濺射沉積於工

件上,進行薄膜沉積。

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