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產品名稱：四吋濺鍍機
訂購客戶:高雄XX大學
【產品介紹】
本濺鍍機備有單支四吋gun，適用靶材於任何導電材料。
可容納四吋晶圓的轉盤以及加熱器，基座可導入RF&DC電漿
作表面處理，進行表面清潔與表面改質。
【濺鍍原理】
使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓
，讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟
擊金屬靶材表面，以能量轉移方式，將靶材原子擊出而濺射沉積於工
件上，進行薄膜沉積。
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