ishien vacuum 部落格

OLED熱蒸鍍系統

【系統規格】

【技術特色】

各種蒸鍍材料皆可使用，可安裝各型式蒸鍍源(鎢絲&鎢舟&電子槍)

可依客戶需求量身訂製設計蒸鍍源數量(1~11組)。

一次最多可同時蒸鍍四種材料進行製程。

蒸鍍源與蒸鍍源之間完全隔離，絕無交叉汙染之現象，且拆解保養容易。

可與手套箱進行傳輸，讓製程一貫作業進行。

【何謂薄膜沉積?】(文章出處：http://www.ndl.narl.org.tw/docs/devices/SE/16b.pdf)

薄膜的成長是一連串複雜的過程所構成的。首先到達基板的原子必須將縱

向動量發散，原子才能『吸附』(adsorption)在基板上。這 些原子會在基

板表面發生形成薄膜所須要的化學反應。所形成的薄膜 構成原子會在基板

表面作擴散運動，這個現象稱為吸附原子的『表面遷徙』(surface migration)。

當原子彼此相互碰撞時會結合而形成 原子團過程，稱為『成核』(nucleation)

。 原子團必須達到一定的大小之後，才能持續不斷穩定成長。因此 小原

子團會傾向彼此聚合以形成一較大的原子團，以調降整體能量。原子團的

不斷成長會形成『核島』(island)。核島之間的縫隙須要填補原子才能使核

島彼此接合而形成整個連續的薄膜。而無法與基板鍵結的原子則會由基板

表面脫離而成為自由原子，這個步驟稱為原子的 『吸解』(desorption)。

PVD與CVD的差別在於：PVD的吸附與吸解是物理性的吸附與吸解作用，而

CVD的吸附與吸解則是化學性的吸附與 吸解反應。

【蒸鍍的原理與概念】

蒸鍍是在高真空狀況下，將所要蒸鍍的材料利用電阻或電子束加熱達到熔

化溫度，使原子蒸發，到達並附著在基板表面上的一種鍍膜技術。在蒸鍍

過程中，基板溫度對蒸鍍薄膜的性質會有很重要的影響。 通常基板也須

要適當加熱，使得蒸鍍原子具有足夠的能量，可以在基板表面自由移動，

如此才能形成均勻的薄膜。基板加熱至150℃以上時，可以使沈積膜與基

板間形成良好的鍵結而不致剝落。

【透過蒸鍍研發OLED製程】(文章出處：http://ykuo.ncue.edu.tw/oled/oled_ad.htm)

如果說液晶顯示器（Liquid Crystal Display，簡稱LCD）是二十世紀

平面顯示器的發展史中，一個令人驚喜的里程碑，那麼有機發光二極

體（Organic Light-Emitting Diodes，簡稱OLED）則是人類在二十一

世紀所夢想追求能超越LCD的平面顯示技術。為什麼這麼說呢？因為

二十一世紀的時代是一個“ 3C ”的時代，也就是通訊（Communication）

、電腦（Computer）與消費性電子器材（Consumer Electronics）的時代，在這樣

的生活當中，各種小型的電子用品將時時伴隨著我們，如上網購物、

收發電子郵件、安排行程、打電話等，都可隨時隨地進行，人機之間的

接觸越來越頻繁，人機之間也將以平面顯示器為主要的溝通介面，相對

的，人們對顯示器的要求也會越來越高，例如輕薄短小、精緻靈敏、色

彩鮮艷、省電等，而能將這些特性集於一身的，就是OLED。因此，在不

久的將來，跟紙張一樣厚度的電視螢幕、捲軸式的電子書刊（e-paper）

或捲軸式的行動電話、色彩亮麗的手機螢幕等產品將會出現在我們的生

活中，無庸置疑的，這將會使我們未來的生活更加的亮麗鮮豔、多采

多姿。

【OLED的特性】 

自發光（self-emissive），視角廣達170°以上

反應時間快（高應答速度 ，微秒級反應時間 ~1μs）

  無ㄧ般LCD殘影現象

高亮度（100-14000 cd/m2）

高流明效率（16-38 lm/W）

低操作電壓（3-9V DC）低功率消耗

全彩化

面板厚度薄（2 mm）

可製作大尺寸與可撓曲性面板

可使用溫度範圍大

製程簡單，具有低成本的潛力（30-40% of TFT-LCD）

  投資金額較小，容易達到經濟效益

綜合以上各種OLED的特性所製成的顯示器，將不會有LCD從側面看

就看不清楚的問題；也不會有LCD影像殘留及畫面跳動的情況；不

但便宜，而且省電；相較於LCD，顏色更鮮艷，對比更鮮明；而

小於2 mm厚度的全彩面板更是只有OLED才能作到。